Study of nano particle stripping and composition inspection on wafer surface

نویسندگان
چکیده

برای دانلود رایگان متن کامل این مقاله و بیش از 32 میلیون مقاله دیگر ابتدا ثبت نام کنید

اگر عضو سایت هستید لطفا وارد حساب کاربری خود شوید

منابع مشابه

Deposition uniformity inspection in IC wafer surface

This paper focuses on the task of automatic visual inspection of color uniformity on the surface of integrated circuits (IC) wafers arising from the layering process. The oxide thickness uniformity within a given wafer with a desired target thickness is of great importance for modern semiconductor circuits with small oxide thickness. The non-uniform chemical vapor deposition (CVD) on a wafer su...

متن کامل

preparation and characterization of new co-fe and fe-mn nano catalysts using resol phenolic resin and response surface methodology study for fischer-tropsch synthesis

کاتالیزورهای co-fe-resol/sio2و fe-mn-resol/sio2 با استفاده از روش ساده و ارزان قیمت همرسوبی تهیه شدند. از رزین پلیمری resol در فرآیند تهیه کاتالیزور استفاده شد.

the study of bright and surface discrete cavity solitons dynamics in saturable nonlinear media

امروزه سالیتون ها بعنوان امواج جایگزیده ای که تحت شرایط خاص بدون تغییر شکل در محیط منتشر می-شوند، زمینه مطالعات گسترده ای در حوزه اپتیک غیرخطی هستند. در این راستا توجه به پدیده پراش گسسته، که بعنوان عامل پهن شدگی باریکه نوری در آرایه ای از موجبرهای جفت شده، ظاهر می گردد، ضروری است، زیرا سالیتون های گسسته از خنثی شدن پراش گسسته در این سیستم ها بوسیله عوامل غیرخطی بوجود می آیند. گسستگی سیستم عامل...

study the effects of low level laser diode on no production and healing of diabetic and cortisone acetate and normal wounded sd rats

nitric oxide (no) is a small molecule synthesized by most of mammalian cells with diverse biological activities including vasodilatation, host defense and wound healing. impaired wound healing is a common occurrence among diabetics and patients receiving glucocorticoid therapy. on the other hand the application of laser in biomedical area have been increased. thus, the current studies were desi...

15 صفحه اول

Modeling, Measurement, and Standards for Wafer Inspection

The major technical issues regarding the calibration of Surface Scanning Inspection Systems (SSIS) are presented including descriptions of the salient features of SSISs and the deposition system using the differential mobility analyzer. The role of the NIST SRM 1963 (100 nm) as a calibration standard is discussed. Data from round robin experiments, which NIST has helped the SEMI SSIS Task Forc...

متن کامل

ذخیره در منابع من


  با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید

ژورنال

عنوان ژورنال: Acta Physica Sinica

سال: 2020

ISSN: 1000-3290

DOI: 10.7498/aps.69.20200517